(1)表面結(jié)晶性。晶體的功能依賴于結(jié)晶結(jié)構(gòu),結(jié)構(gòu)遭到破壞會引起功能下降。因此,在加工單晶時,最重要的質(zhì)量指標(biāo)是不破壞表面的結(jié)晶性。藍(lán)寶石單晶( 1012)表面在100kV加速電壓下的反射電子衍射象。用各種方法拋光藍(lán)寶石單晶( 1012)面的試驗結(jié)果表明,用8 μmSiC拋光的表面和用3 μm金剛石拋光的表面,其表面的結(jié)晶特性已遭破壞,而浮動拋光面和化學(xué)拋光面均獲得明顯的菊池線,這就表明加工表面的結(jié)晶基本保持良好。腐蝕只有內(nèi)在的變形縮孔而加工不產(chǎn)生變形縮孔,說明單晶材料的浮動拋光不產(chǎn)生塑性變形。拋光Mn - Zn鐵氧體單晶也得到同樣的效果。
(2)表面磁特性。磁性材料的磁特性不僅對組織結(jié)構(gòu)敏感,對應(yīng)力也很敏感。一旦加工表面有殘余應(yīng)力,磁特性就會發(fā)生變化。Mn - Zn鐵氧體環(huán)形工件的兩個平面用各種方法進(jìn)行加工后,發(fā)現(xiàn)浮動拋光面顯示出有與化學(xué)腐蝕加工面同樣的磁特性,這說明其表面沒有殘余應(yīng)力。用Cr?O?拋光的表面下0.5μm深度有壓縮的殘余應(yīng)力,導(dǎo)致常溫下的起始導(dǎo)磁率降低到母材的60%左右。
(3)表面化學(xué)特性。在拋光過程中,拋光劑粒子元素侵入到工件最表層后,形成缺陷點。由于異質(zhì)元素的侵入,其周圍的結(jié)合力變?nèi)?。用不同種類的拋光劑進(jìn)行藍(lán)寶石單晶的拋光時,用IMA分析儀進(jìn)行表面元素分析,得知,在拋光面下1μm以內(nèi),含有拋光劑的溝成元素,這顯然不是簡單的物理吸附現(xiàn)象。
浮動拋光表面特性
用加工的方法不能去除這樣微小的缺陷。因侵入的元素種類與使用的拋光劑材質(zhì)有關(guān);如果拋光劑的材料和純度選擇適宜,也不會發(fā)生異質(zhì)元素的侵入。例如,用Si02拋光SOS用的藍(lán)寶石基片,或用Zn0拋光用于光波導(dǎo)管的藍(lán)寶石基片。在拋光人造水晶或光學(xué)玻璃時,為徹底避免拋光中的污染,應(yīng)使用高純度Si0:微粒作為拋光劑。
化學(xué)腐蝕是一種無畸變的加工,但腐蝕加工后工件表面元素的濃度與基體內(nèi)部的濃度是不同的。浮動拋光與化學(xué)腐蝕的表面元素濃度分布是類似的。因此,認(rèn)為浮動拋光也是與化學(xué)腐蝕一樣的無畸變加工法。
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(2)表面磁特性。磁性材料的磁特性不僅對組織結(jié)構(gòu)敏感,對應(yīng)力也很敏感。一旦加工表面有殘余應(yīng)力,磁特性就會發(fā)生變化。Mn - Zn鐵氧體環(huán)形工件的兩個平面用各種方法進(jìn)行加工后,發(fā)現(xiàn)浮動拋光面顯示出有與化學(xué)腐蝕加工面同樣的磁特性,這說明其表面沒有殘余應(yīng)力。用Cr?O?拋光的表面下0.5μm深度有壓縮的殘余應(yīng)力,導(dǎo)致常溫下的起始導(dǎo)磁率降低到母材的60%左右。
(3)表面化學(xué)特性。在拋光過程中,拋光劑粒子元素侵入到工件最表層后,形成缺陷點。由于異質(zhì)元素的侵入,其周圍的結(jié)合力變?nèi)?。用不同種類的拋光劑進(jìn)行藍(lán)寶石單晶的拋光時,用IMA分析儀進(jìn)行表面元素分析,得知,在拋光面下1μm以內(nèi),含有拋光劑的溝成元素,這顯然不是簡單的物理吸附現(xiàn)象。
浮動拋光表面特性
用加工的方法不能去除這樣微小的缺陷。因侵入的元素種類與使用的拋光劑材質(zhì)有關(guān);如果拋光劑的材料和純度選擇適宜,也不會發(fā)生異質(zhì)元素的侵入。例如,用Si02拋光SOS用的藍(lán)寶石基片,或用Zn0拋光用于光波導(dǎo)管的藍(lán)寶石基片。在拋光人造水晶或光學(xué)玻璃時,為徹底避免拋光中的污染,應(yīng)使用高純度Si0:微粒作為拋光劑。
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本文“浮動拋光表面特性”由科眾陶瓷編輯整理,修訂時間:2021-10-16 14:26:13
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